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신규 도입 장비 안내 (Ion Milling System, 이온빔단면가공기)
제목 신규 도입 장비 안내 (Ion Milling System, 이온빔단면가공기)
작성자 백지영 등록일 2023.03.22 조회수 385

우리 공동실험실습관에 신규 도입된 분석 장비를 소개합니다.

▣ 장비명 : 이온빔단면가공기 (Ion Milling System)

▣ 장비 사양

모델 : ArBlade5000

제작사 : HITACHI

제조국 : 일본

기능 :

- Gas used : Ar (argon) gas

- Accelerating voltage : 0~8 kV

- Milling rate : Cross-section milling : 1mm/hr on Si

- Flat milling : 22um/hr on Si (tilt angle:0)

- Maximum sample size : 20(W) X 12(D) X 7(H) mm

- Sample moving range : X : ±7mm, Y : 0~3mm

- Swing angle : ±15º, ±30º, ±40º

- Wide-area cross-section milling : processing width of 8mm

- Flat milling area : 직경 32mm

- Cooling temperature control 가능 : 0~-100℃

▣ 분석 응용 :

- 전 이공계 분야에서 활용 가능 (표면, 단면 밀링 가능)

- 금속, 재료, 신소재 구조 분석을 위한 전처리 (EBSD분석용)

- 시료의 단면 분석을 위한 전처리(multi layer 두께분석)

- 나노소재, 전자재료, 기계소재, 멤브레인, 바이오소재 등 다방면으로 SEM전처리장비로 활용 가능

- 액체 질소를 이용하여 이온빔으로 인한 열 손상 없이 샘플 가공 가능

- 대면적 단면 가공 가능


▣ 분석지원 문의 : 담당 백지영연구원 042-821-7384, baekji511@cnu.ac.kr

▣ 장비 세부 설명 및 자료 : 기기안내 바로가기[클릭], 하단 장비 카탈로그 참고해주세요.

▣ 분석료 : 100,000원/시간 (샘플전처리+샘플가공 모두 포함)

- 대면적 가공 : 50,000원/시간 추가

- 액체질소 사용 : 20,000원/시간 추가

- 샘플 특성에 따라 전처리 및 가공 시간이 달라집니다.

- SEM/EDS 별도 분석의뢰 신청


많은 이용 바랍니다.

감사합니다.

첨부파일
이온빔단면가공기_ArBlade5000 카탈로그.pdf
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