우리 공동실험실습관에 신규 도입된 분석 장비를 소개합니다.

 

• 1) 일반광학현미경으로 관측이 어려운 시료의 미세영역을 고배율 50만 배 이상으로 확대하여 표면구조 및 형태를 확인이
      가 능하여, 모든 과학 분야에서 표면 분석을 위해 활용되는 장비이다.
   
• 2) SEM4 장비는 대형 챔버사이즈를 가지고 있어 큰 샘플 분석에 유리하며, WD=6mm 조건에서 SEM과 EDS분석을 동시에
     진행 할 수 있어 고해상도의 EDS분석이 가능하다. 또한 CL검출기가 새로 도입되어 샘플에서 발생된 음극선 발광
     (Cathodoluminescence)을 검출하여 CL mapping이미지 및 spectroscopy를 얻을 수 있으며, 6개의 SEM분석화면을 동시
     관찰 할 수 있는 특징을 가졌다.
   
• 3) 4-stage electromagnetic & 1-stage electro-static lens 유형의 SEM 경통을 가지고 있어, 샘플의 자기장과 전기장이
     없는 환경에서 낮은 가속전압의 분해능을 향상 시킬 수 있다.
   
• 4) Camera Navigation 탑재로 분석 전 샘플의 카메라 이미지를 저장하여, Map으로 활용할 수 있어, 보다 빠르고 정확하게
     샘플 위치를 움직일 수 있다.

 

* 기기활용

* 모든 과학 분야에서 표면 및 성분 분석 가능 (시료조건: 완벽건조)

- 금속, 무기, 유기, 세라믹 등 모든 재료의 표면 관찰

- 합성한 입자의 구조 및 크기, 입자 분포도 관찰

- 생물시료의 조직 관찰

- 초미세가공 시료의 구조 및 다공성의 확인

- 박막, 다층막 등 미세 필름의 계층 관찰

- 반도체 기판 등 미세 구조를 가진 시료의 불량 확인

 

* FE-SEM 사양

1. 모델: SU7000

2. 제작사: HITACHI

3. 제조국: 일본

4. 분해능 : 0.8nm @15kV, 0.9nm @1kV

5. 가속전압 범위 : 0.1kV ~ 30kV

6. Probe 전류 범위 : Max 200nA

7. 배율 : ×20 ~ ×2,000,000

8. 전자총 : Hight brightness Schottky emitter

9. 가능한 분석 : SE, BSE, EDS, CL

 

* EDS 사양

1. 모델: Ultim Max65

2. 제작사: OXFORD

3. 제조국: 영국

4. Active area: 65mm2

5. Detector: Si Drift Detector (SDD)

6. Resolution: 127 eV at Mn Ka (130,000cps)

7. 분석 가능 원소: Be(원자번호:4) ~ Cm(원자번호:96)

 

*CL 사양

1. 모델: Monarc450

2. 제작사: Gatan

3. 제조국: 미국

4. 기능: Unfiltered CL mapping, Wavelength-filtered CL Mapping & Spectroscopy

5. Wavelength range: 300 to 800nm

6. Wavelength resolution: 0.5nm

7. SI pixel rate, max.: 6000 pixels/s

8. Field of view: 10,000um2

 

▣ 분석지원 문의 : 담당 백지영연구원 042-821-7384, baekji511@cnu.ac.kr

▣ 장비 세부 설명 및 자료 : 장방출주사전자현미경 Ⅳ 기기안내 바로가기

 

많은 이용 바랍니다.

감사합니다.